光电成像技术与系统教育部重点实验室
英文名称：Key Laboratory of Photoelectronic Imaging Technology and System(Beijing Institute of Technology), Ministry of Education
简介：
光电成像技术与系统教育部重点实验室于2008年批准设立，2011年通过验收。
该重点实验室依托“光学工程”国家一级重点学科，具有悠久的学科历史和积累，为国民经济和国防事业的发展做出过重要的贡献，在国内外具有较高的学术影响和学术地位。
重点实验室建设目标为建立光电成像新理论和关键技术研究及其高层次人才培养的基地，在超常规光电成像信息(超低照度/超宽波段/超空间分辨/超光谱分辨/超时间分辨/超高灵敏/超微细/超视觉显示等)的获取、处理与融合技术与系统应用方面开拓新的理论与技术领域。
研究方向包括：（1）新型极微弱光探测成像理论、技术与系统；（2）宽波段红外、紫外探测成像理论、技术与系统；（3）高分辨光刻成像及性能检测技术；（4）新型光电成像处理技术与系统应用。
构建了一支以中国工程院院士周立伟教授为首席科学家、教育部长江特聘教授、博士生导师与中青年骨干教师为中坚力量、学术水平高、治学严谨、思想活跃、实力雄厚、结构合理、老中青结合的学术梯队。
每年招收约30名博士和90名硕士研究生，接收博士后及访问学者约3～5名。
联系人：高昆；联系电话：68912560
